第3 【設備の状況】
1 【設備投資等の概要】
当連結会計年度において実施いたしました当社グループの設備投資の総額は130,851百万円であります。その主なものは、300mm最先端半導体用高精度ウェーハの増強投資によるものです。
2 【主要な設備の状況】
当社グループにおける主要な設備の状況は、当連結会計年度末現在、以下のとおりであります。
なお、当社グループの事業は「高純度シリコン」のみの単一セグメントであるため、セグメント別の記載は省略しております。
(1) 提出会社
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2022年12月31日現在
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事業所名 (所在地)
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設備の内容
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帳簿価額(百万円)
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従業員数 (人)
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建物 及び構築物
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機械装置 及び運搬具
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土地 (面積千㎡)
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その他
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合計
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九州事業所伊万里 (佐賀県伊万里市)
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半導体用 ウェーハ 製造設備
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41,818
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49,317
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4,969 (573)
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45,699
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141,804
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2,868 (501)
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九州事業所佐賀 (佐賀県杵島郡 江北町)
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半導体用 ウェーハ 製造設備
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3,310
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1,016
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641 (73)
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125
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5,094
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527 (30)
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米沢工場 (山形県米沢市)
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半導体用 ウェーハ 製造設備
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4,147
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1,593
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1,277 (104)
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364
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7,384
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318 (24)
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(2) 国内子会社
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2022年12月31日現在
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会社名
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事業所名 (所在地)
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設備の内容
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帳簿価額(百万円)
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従業員数 (人)
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建物 及び構築物
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機械装置 及び運搬具
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土地 (面積千㎡)
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その他
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合計
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SUMCO TECHXIV 株式会社
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本社・工場 (長崎県大村市)
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半導体用 ウェーハ 製造設備
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6,755
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13,528
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2,486 (173)
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12,336
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35,106
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1,144 (192)
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(3) 在外子会社
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2022年12月31日現在
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会社名
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事業所名 (所在地)
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設備の内容
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帳簿価額(百万円)
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従業員数 (人)
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建物 及び構築物
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機械装置 及び運搬具
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土地 (面積千㎡)
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その他
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合計
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FORMOSA SUMCO TECHNOLOGY CORPORATION
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本社・工場 (台湾雲林縣)
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半導体用 ウェーハ 製造設備
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8,079
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16,807
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523 (66)
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47,329
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72,739
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1,512 (-)
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(注) 1.帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品、リース資産、建設仮勘定であります。
2.従業員数欄の( )は、年間平均臨時従業員数を外数で記載しております。
3.上記の他、主要な賃貸借及びリース設備はありません。
3 【設備の新設、除却等の計画】
当社グループの設備投資につきましては、景気予測、業界動向、設備投資効率等を総合的に勘案して計画することとしております。
2022年12月31日現在における重要な設備の新設、除却等の計画は次のとおりであります。
なお、当社グループの事業は「高純度シリコン」のみの単一セグメントであるため、セグメント別の記載は省略しております。
(1) 重要な設備の新設
当社及び当社子会社であるSUMCO TECHXIV株式会社は、2021年9月30日に総額2,287億円の設備投資を決定いたしました。
また当社は、2021年10月18日に公募増資を実施いたしました。設備投資資金の一部は、当該公募増資の手取額より充当しております。
会社名
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設備の内容
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投資予定額
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資金調達 方法
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着手 年月
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完了 予定 年月
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完成後の 増加能力
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投資総額 (百万円)
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既支払額 (百万円)
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提出会社 (株式会社 SUMCO)
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300mm半導体用最先端シリコンウェーハの対応設備(建屋及びユーティリティ設備の建設に関連する設備投資)
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78,600
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14,624
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増資資金
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2021年 10月
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2023年 12月
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― (注)2
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提出会社 (株式会社 SUMCO)
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300mm半導体用最先端シリコンウェーハの対応設備(製造設備に関連する設備投資)
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122,900
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17,167
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増資資金及び 自己資金
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2021年 10月
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2024年 12月
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― (注)2
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SUMCO TECHXIV 株式会社
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300mm半導体用最先端シリコンウェーハの対応設備(建屋及びユーティリティ設備の建設に関連する設備投資)
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16,500
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3,055
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自己資金及び 借入金 (注)1
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2021年 10月
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2023年 12月
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― (注)2
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SUMCO TECHXIV 株式会社
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300mm半導体用最先端シリコンウェーハの対応設備(製造設備に関連する設備投資)
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10,700
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1,187
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自己資金及び 借入金 (注)1
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2021年 10月
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2023年 12月
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― (注)2
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(注)1 提出会社(株式会社SUMCO)からの子会社融資
2 完成後の生産能力を合理的に見積もることは、困難であるため記載しておりません。
(2) 重要な改修
該当事項はありません。
(3) 除却等
経常的な設備更新のための除却等を除き、重要な設備の除却等の計画はありません。