１ 【設備投資等の概要】

当事業年度の設備投資については、生産設備の増産、老朽化設備の更新、研究開発機能の強化等などを目的とした設備投資を継続的に実施しています。

当事業年度の設備投資の総額は357百万円であり、セグメントごとの設備投資について示すと、次のとおりです。

(1) タンタルコンデンサ事業

当事業年度の設備投資の総額は、169百万円であり、主として当社福知山工場におけるタンタルコンデンサの生産体制の整備等に投資を行いました。なお、重要な設備の除却又は売却はありません。

(2) 回路保護素子事業

当事業年度の設備投資の総額は、178百万円であり、主として当社福知山工場における回路保護素子の増産設備及びラインアップの拡充のための生産設備等に投資を行いました。なお、重要な設備の除却又は売却はありません。

(3) その他

当事業年度の設備投資の総額は、9百万円であり、重要な設備の除却又は売却はありません。

２ 【主要な設備の状況】

当社における主要な設備は、次のとおりです。

2023年３月31日現在

(注) １　帳簿価額には、建設仮勘定の金額を含んでいません。

２　帳簿価額のうち「その他」は、工具、器具及び備品です。

３　上記中〔外書〕は、賃借している土地の面積です。

３ 【設備の新設、除却等の計画】

(1) 重要な設備の新設等

該当事項はありません。

(2) 重要な設備の除却等

該当事項はありません。